熔融石英、硅
8"晶圓級
二元、8階、16階
0.5μm的最小特征尺寸
< 70nm套刻精度
衍射效率高達98%
190nm至5μm波長范圍
應用領域:半導體制程、光束整形、激光光學、光場勻化器/擴散器、相位板、三維傳感、點陣發生器
技術指標
基于硅或熔融石英材質的衍射微納光學元器件,2階至16階衍射元件設計,最小特征尺寸在500 nm 至1 μm,套刻誤差小于70 nm,效率最高可達96%。可應用于泛半導體光場勻化器、高功率激光器光束整形系統、光纖互聯渦旋透鏡、點陣發生器和勻光擴散器等。
衍射微納光學元器件亦可用作光場勻化器和整形器,以克服折射微透鏡陣列在尺寸、重量或光斑形狀等方面的限制,能夠在單個元件中實現復雜的光學功能。
技術指標 |
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材質 |
熔融石英(各種等級)和硅 |
結構組成 |
2階(二元)至16階 |
精度 |
典型套刻誤差 < 70 nm |
最小特征尺寸 |
500 nm 至1 μm ,根據階躍高度和刻蝕深度而定 |
效率 |
高達 96 % |
應用領域
始終處于活動狀態